藥液供給系統((CDS) Chemical Distribution System )

設備概要
- 黃光工程(Photo Resist�HMDS�顯影液�薄膜等)
- 蝕刻工程(HNO3�HF�Al-Etch�ITO-Etch等)
- 剝離工程(剝離液等)
- 洗淨工程(H2SO4�H2O2�NH4OH�HCI�IPA等)

保證精度(實施案例)
- 超LSI洗淨用藥液
- 0.1um以上的Particle≦10pcs/ml
- 不純物 : 0.005ppb以下

設備納入實績
- 68社 1,500套系統以上

三菱化學工程-藥液供給系統