HF回收系統((HF-RS) HF Recycle System)

設備概要
• 直接進行回收處理液晶面板的蝕刻液
• 使用再生式特殊filter unit高性能分離液中的研磨沉澱物
• 除去液中溶解之不純物質
• 與高濃度調整系統搭配使用可確保蝕刻液率的安定性
　
設備仕樣
• HF回收率:80%
• 不純物除去率:90%
　
Features
• Direct treatment without dilution
• Reducing waste volume by high recycle ratio
• Keeping etching ratio stability from refine unit and concentration management unit
• Applicable for mixed acid and another strong acid
　
三菱化學工程-HF回收系統